RSS

В МИЭТе прошла международная конференция

16:25 01.02.2019

КонференцияВ районе Старое Крюково в МИЭТе в рамках мероприятий Центра НТИ «Сенсорика» прошла конференция «Комплексное проектирование микросистем средствами САПР Mentor Graphics», организованная Институтом нано- и микросистемной техники (НМСТ) и компанией «Mentor Graphics». Об этом сообщается на сайте университета. В конференции приняли участие представители университета и компаний-партнеров: «Mentor Graphics», «Siemens PLM» и «Megratec». Основными спикерами стали сотрудники Mentor Graphics из России, Франции и Германии. За два дня конференцию посетили более 160 человек из 46 компаний и предприятий.

Первый день конференции был посвящен проектированию информационных (ИС) и микроэлектромеханических систем (МЭМС), были представлены маршруты проектирования МЭМС и элементов интегральной фотоники. Конференцию открыл директор Института Нано- и микросистемной техники Сергей Петрович Тимошенков. Директор по дистрибьюции решений компании «Mentor Graphics» Элмар Дюкек представил команду российских разработчиков систем автоматизированного проектирования (САПР) и рассказал о востребованности продуктов компании для российского рынка электроники. Генеральный директор компании «Megrateс» Андрей Львович Лохов представил линейку продуктов «Mentor Graphics» по проектированию ИС. Возможности функциональной верификации цифровых систем в своих докладах показал технический эксперт Роман Петит. После перерыва конференцию продолжил технический эксперт в области верификации интегральных схем и систем на кристалле Мартин Нейхофф.

Темой второго дня стало проектирование микросистем в корпусе и на печатных платах. Руководитель учебно-научного центра проектирования «Mentor Graphics - МИЭТ» Денис Вертянов открыл конференцию своим докладом. Про перспективы развития САПР Mentor Graphics в области проектирования интеллектуальных сенсорных систем рассказал менеджер по дистрибьюции решений Денис Лобзов. Были представлены доклады по разработке и моделированию сложных микросистем на печатных платах, микросборок и многокристальных модулей. К спикерам из компаний Megratec и Mentor Graphics во второй день конференции присоединился консультант по развитию бизнеса в приборостроении «Siemens PLM Software» Илья Чайковский с докладом о возможностях управления данными при проектировании микросистем в ECAD и интеграции с PLM/PDM системами предприятия.

На конференции также поднимались вопросы сотрудничества Института НМСТ и предприятий-участников конференции в научно-исследовательской и образовательной сферах. В программе конференции прошли экскурсии по научным подразделениям НИУ МИЭТ, которые занимаются разработкой микроэлектромеханических и оптических датчиков, разработкой высокоплотных технологий. Сотрудничество в образовательной сфере - это курсы повышения квалификации (ПК) по проектированию систем на печатных платах и систем на кристалле средствами САПР Mentor Graphics, курсы ПК в области разработки МЭМС, проводимые Институтом НМСТ, практика студентов, целевая и контрактная подготовка бакалавров и магистров для предприятий.

Итогом мероприятия стали договоренности о продолжении сотрудничества по проведению международных конференций и подписание нового соглашения о партнерстве между Институтом НМСТ и компанией «Mentor Graphics».

Если вы нашли ошибку: выделите текст и нажмите Ctrl+Enter

Сообщение об ошибке

Неверно заполненное поле
Неверно заполненное поле
Неверно заполненное поле
Неверно заполненное поле
Неверно заполненное поле
Неверно заполненное поле
Неверно заполненное поле
Неверно заполненное поле
*
CAPTCHA Обновить код
Play CAPTCHA Audio

Версия для печати